革新溫控技術，賦能半導體智造

在現今快速發展的半導體產業中，準確的溫度控制至關重要，尤其是在多晶矽還原爐、矽單晶生長爐及矽晶片加工等複雜製程。身為非接觸式溫度測量領域的專家，FLUKE 製程儀器透過提供創新的紅外線測溫解決方案，成功幫助半導體製造商提高了產品品質和生產效率。

多晶矽還原爐測溫

多晶矽還原爐中的溫度測量具有挑戰性，主要由於矽材料對紅外線的吸收，以及現場的防爆需求。

FLUKE Endurance 系列感測器憑藉著 1µm 波長的卓越表現，能夠透過石英窗精確監測矽晶片的溫度，不受外界熱源干擾。此系列採用的客製化光學元件，滿足了多種安裝需求，為客戶提供了靈活性和可靠性，成為了紅外線測溫的可靠解決方案。

矽單晶生長爐測溫

在矽單晶生長過程中，對爐內加熱器和坩堝的溫度控制至關重要。

FLUKE 的 MI3 系列感測器採用 1µm 波長，可透過真空腔室的小窗口精確測量加熱器的溫度，從而確保單晶矽棒的生長條件得到嚴格控制。該感測器透過抗干擾設計，在複雜環境中也能正常運行，並滿足現場的防爆需求。

矽晶片拋光製程溫度監控

在拋光矽晶片的過程中，溫度過高會導致晶片報廢。

FLUKE Thermalert 4.0 感測器透過監測拋光液的溫度，間接反映晶片表面溫度，確保其保持在較低水平，避免過熱和晶片扭曲。此無接觸式測量方式不僅提高了溫度控制的準確性，也避免了對晶片的污染或損壞。

MBE 製程的溫度監測

在外延反應器的 MBE 製程中，晶片溫度監測面臨發射率變化的挑戰。

FLUKE MM 系列客製化感測器在特定波長下運作，可透過石英窗準確測量矽晶片的溫度，無需擔心發射率的變化。這種非接觸式紅外線測溫技術確保了在沉積過程中晶片溫度的穩定控制，是此製程的可靠解決方案。

FLUKE 製程儀器在半導體產業的許多成功應用，充分展現了我們的溫度測量技術與解決方案優勢。

在不斷追求高品質和高效率的半導體製造過程中，FLUKE 的紅外線測溫設備以其高精度、穩定性和可靠性，幫助客戶提升了生產水平，並降低了生產風險。未來，FLUKE 將持續致力於創新，為半導體產業帶來更多卓越的溫度控制解決方案。